中国自主研发的光刻机多少纳米?

中国自主研发的光刻机已达到90纳米工艺水平，这一突破标志着我国在半导体制造领域的重要进步。光刻机是芯片生产的核心设备，90纳米技术能满足多种芯片制造需求，为我国科技自立自强奠定基础。

目前我国光刻机技术仍在持续升级，科研团队正努力向更先进工艺迈进。这一成果凝聚了无数工程师的心血，打破了国外长期垄断的局面，为我国电子信息产业发展提供了关键支撑。未来，随着技术不断突破，国产光刻机有望实现更高精度的制造能力。