中国光刻机现在到了什么水平?

中国光刻机技术已取得突破，28纳米芯片实现量产，14纳米设备完成研发。上海微电子等企业深耕光刻领域，国产设备逐步替代进口。国内高校和企业联合攻关，攻克光源系统、精密光学等核心技术，光刻机产业链日趋完善。

中国光刻机与国际顶尖水平仍有差距，7纳米以下工艺尚未突破。荷兰ASML垄断高端市场，国产设备在精度和稳定性上需提升。国家加大研发投入，建设光刻机产业园，培养专业人才。未来十年，中国光刻机有望实现技术跨越，满足国内芯片制造需求。