湿法刻蚀是什么工艺?

湿法刻蚀是一种利用化学溶液去除材料表面的工艺，常用于半导体和微电子领域。它能精确加工硅片、玻璃等材料，通过酸或碱溶液腐蚀不需要的部分，形成精细图案。这种工艺操作简单，成本低，适合大规模生产。

湿法刻蚀的效率取决于溶液浓度、温度和时间控制。常见的刻蚀液包括氢氟酸、磷酸和硝酸，不同材料需要匹配特定配方。该工艺会产生废液，需妥善处理以避免环境污染。随着技术发展，干法刻蚀逐渐部分替代湿法刻蚀，但湿法刻蚀在特定场景仍有不可替代的优势。