中国光刻机现在什么水平?

中国光刻机技术正在快速发展，目前已能生产28纳米制程的光刻设备，部分关键部件实现自主研制。上海微电子、中芯国际等企业不断突破技术瓶颈，光刻机精度和稳定性显著提升，国产光刻机开始在芯片制造领域应用，但与国际顶尖水平仍有差距。

国内光刻机研发投入持续增加，每年新增专利数百项，产业链逐步完善。光刻机涉及光学、精密机械、材料等多领域技术，国内高校和企业协同攻关，逐步缩小与国际领先企业的差距，未来有望在更先进制程上实现突破。