中国光刻机现在怎么样了?

中国光刻机技术近年取得突破，上海微电子研发的28纳米光刻机已进入测试阶段，国产光刻机数量超过50台。光刻机是芯片制造的核心设备，中国企业在光刻胶、光源等关键领域投入数百亿元研发资金，部分技术指标达到国际先进水平。

中国光刻机产业仍面临挑战，高端光刻机依赖进口的局面尚未完全改变。荷兰ASML的7纳米光刻机售价超过1.2亿元，中国正加速追赶，计划2030年前实现14纳米以下光刻机量产。国内科研团队每天工作超过12小时，推动光刻机技术不断进步。