电容薄膜真空蒸镀厚度多少?

电容薄膜真空蒸镀的厚度一般在几微米到几十微米之间，具体数值取决于薄膜的用途和材料特性。常见的蒸镀厚度为5到20微米，某些特殊应用可能需要更薄的1微米或更厚的50微米。蒸镀过程中，通过控制时间和温度可以精确调整厚度，确保薄膜性能稳定。

不同材料的蒸镀厚度差异明显，比如铝膜常用8微米，金膜可能达到15微米。实际生产中，厚度测量设备会实时监控，偏差控制在0.5微米内。这种工艺广泛应用于电子元件和光学器件，薄膜太薄容易破损，太厚则影响导电性，因此需要严格把控。