中国国产光刻机什么水平?

中国国产光刻机目前处于起步阶段，主要集中在中低端市场，如上海微电子的90纳米光刻机已投入使用。高端光刻机依赖进口，7纳米以下技术尚未突破，研发周期长、投入资金大。国内企业正加速追赶，但与国际顶尖企业如ASML仍有较大差距。

国产光刻机面临技术封锁和供应链挑战，核心部件如光源、镜头仍依赖国外。国内科研院所和企业合作攻关，部分关键指标取得进展。未来随着政策支持和自主创新，国产光刻机有望逐步实现技术突破，但短期内难以完全替代进口产品。