国外光刻机多少纳米?

国外光刻机技术领先，荷兰阿斯麦尔的极紫外光刻机能达到7纳米以下，日本东京电子的深紫外光刻机支持5纳米工艺，美国应用材料的浸没式设备可处理3纳米芯片。这些设备精度极高，一台机器价值上亿元，每年产量仅几十台，全球顶尖芯片厂都依赖这些设备。

光刻机是芯片制造的核心设备，纳米数越小技术越先进。目前最先进的EUV光刻机可生产2纳米芯片，而成熟制程的DUV设备也能做到7纳米。中国台湾的台积电、韩国的三星都采购这些设备，一条生产线需要十几台光刻机，投资额超过百亿元。