时间:01-19人气:19作者:笙笙千离
中国目前还不能制造高端光刻机,尤其是7纳米以下的芯片制造设备。荷兰的ASML公司垄断了极紫外光刻机技术,中国只能生产中低端光刻机,用于成熟制程芯片生产。华为等企业曾尝试自主研发,但受限于技术和材料,进展缓慢。
中国正在加大投入,上海微电子等企业已研发出28纳米光刻机,但距离顶尖水平还有差距。美国的技术封锁让中国更难突破,不过国内科研团队正在努力追赶,未来或许能实现更高制程的光刻机自主生产。
注意:本站部分文字内容、图片由网友投稿,如侵权请联系删除,联系邮箱:happy56812@qq.com