半导体设备排气一般多少负压正常?

半导体设备排气负压一般在-50到-500帕斯卡之间，具体数值取决于设备类型和工作环境。比如光刻机需要更稳定的负压，而清洗机要求稍低。负压过高或过低都会影响设备运行，甚至损坏部件。日常维护时需定期检查压力表，确保数值在安全范围内。

排气系统设计时，工程师会根据工艺需求调整负压值。半导体制造中，-100到-300帕斯卡是最常见的区间。真空泵性能、管道密封性都会影响实际负压。操作人员需记录每日数据，发现异常及时处理。负压稳定能保证生产效率和产品质量。