真空镀膜最佳轰击真空是多少?

真空镀膜的最佳轰击真空一般在10^-3到10^-4帕斯卡之间。这个范围能确保靶材表面充分清洁，提高镀层附着力。轰击时真空过低会导致气体残留，过高则影响等离子体稳定性，影响镀膜质量。

实际操作中，设备类型和镀膜材料会调整具体数值。金属镀膜可能需要10^-5帕斯卡，而氧化物镀膜在10^-3帕斯卡也能达到理想效果。真空度过低会产生杂质颗粒，过高则增加设备成本，需平衡工艺需求与经济性。