蚀刻技术能取代光刻机吗?

蚀刻技术通过化学或物理方法去除材料表面，可加工金属、玻璃和硅片，精度达微米级。光刻机用紫外线或电子束曝光，制造芯片电路，精度更高。蚀刻成本低，适合简单结构；光刻机能处理复杂设计，但价格昂贵。两者各有优势，短期内难以完全替代。

蚀刻技术广泛应用于电路板、微机电系统和显示屏制造，生产效率高。光刻机是芯片制造的核心设备，台积电、三星依赖它生产先进芯片。蚀刻无法满足7纳米以下工艺需求，光刻机仍是唯一选择。未来技术突破或许改变格局，但目前蚀刻无法取代光刻机。