中国第一台光刻机是什么时候生产的?

中国第一台光刻机诞生于1980年，由上海光学机械研究所研制成功。这台设备采用接触式曝光技术，主要用于集成电路制造，填补了国内空白。当时科研团队克服了材料精度和光学系统等难题，实现了从无到有的突破。

这台光刻机重达数吨，每小时可处理几十片晶圆。它的诞生标志着中国在半导体装备领域迈出重要一步，为后续技术研发奠定了基础。虽然与国际先进水平存在差距，但这一成果凝聚了无数科研人员的心血。