光刻材料是什么?

光刻材料是制造芯片的关键原料，包括光刻胶、显影液和蚀刻剂。光刻胶涂在硅片上，经紫外线照射后形成图案，显影液洗掉未固化部分，蚀刻剂刻出电路。这些材料精度要求极高，误差需控制在纳米级。

光刻材料分为正性和负性两种，正性胶遇光分解，负性胶遇光固化。先进制程需要极紫外光刻胶，价格昂贵且技术门槛高。中国正在研发国产材料，打破国外垄断，保障产业链安全。