光刻工艺属于什么专业?

光刻工艺属于微电子与集成电路设计专业，涉及半导体制造的核心技术。学生需学习光刻原理、光刻胶特性及曝光设备操作，掌握纳米级图形转移技术。该专业要求扎实的物理化学基础，熟悉光刻机、刻蚀机等设备，实践课程包括掩模版设计与工艺参数优化。

光刻工艺广泛应用于芯片生产、显示面板制造等领域，技术难度极高。工程师需解决分辨率提升、套刻精度控制等问题，行业需求旺盛。毕业生可进入芯片制造企业、科研院所，从事技术研发或工艺优化工作，薪资水平较高。