光刻胶是什么物质?

光刻胶是一种感光材料，主要成分包括树脂、光引发剂和溶剂。它在芯片制造中用于将电路图案转移到硅片上，经过曝光后会发生化学反应。常见的光刻胶有正性和负性两种类型，正性胶曝光后溶解，负性胶曝光后固化。不同工艺需要不同波长的光刻胶，比如紫外光、深紫外光等。

光刻胶的性能直接影响芯片的精度和良率，其研发难度极高。全球主要供应商包括日本的信越化学和美国的JSR。随着芯片制程不断缩小，对光刻胶的要求也越来越高，比如5纳米工艺需要极紫外光刻胶。中国正在加速国产化替代，但目前高端光刻胶仍依赖进口。