中国光刻机现在怎么样?

中国光刻机技术近年取得显著进步，上海微电子已研发出28纳米工艺设备，国产光刻机开始进入芯片制造环节。华为等企业加大研发投入，光刻机产业链逐步完善，光刻胶、镜头等核心部件实现自主生产。国内高校与企业联合攻关，光刻机专利数量逐年增加，技术人才储备不断扩大。

当前光刻机仍面临挑战，7纳米以下高端设备依赖进口，光刻机量产能力与国际巨头差距明显。荷兰ASML的EUV光刻机技术领先全球，中国光刻机需要突破光源、精度等技术瓶颈。国内企业正加速追赶，预计未来5年可实现14纳米工艺批量生产，光刻机国产化进程稳步推进。