国外28纳米光刻机什么时候发明的?

国外28纳米光刻机在2010年左右正式投入使用。荷兰阿斯麦公司率先推出这款设备，用于生产更先进的芯片。这项技术让芯片制造进入新阶段，手机和电脑性能大幅提升。英特尔和台积电等企业很快采用这种设备，推动电子产品更新换代。

28纳米光刻机需要极高精度，镜头和控制系统都经过严格测试。一台设备价值数千万美元，维护成本也很高。随着技术发展，更先进的7纳米和5纳米光刻机相继问世，但28纳米至今仍在部分领域使用，比如汽车电子和工业芯片。