中国的光刻机突破多少纳米了?

中国光刻机技术已突破到90纳米工艺水平，部分设备达到28纳米精度。上海微电子等企业研发的深紫外光刻机可用于芯片制造，中芯国际等工厂已投入生产。国产光刻机覆盖从65纳米到28纳米多个节点，满足国内大部分芯片需求。

中国光刻机研发投入数百亿元，科研团队攻克光源系统、精密光学等核心技术。华虹集团等企业验证了国产光刻机的稳定性，良品率达到行业标准。下一步目标是实现14纳米工艺突破，打破国外技术封锁。