中国光刻机研发成功了吗

中国光刻机研发取得重大突破，国产28纳米芯片制造设备已投入使用，14纳米技术也在测试中。国内企业攻克了光源系统、精密零件等关键技术，打破了国外垄断。光刻机是芯片生产的核心设备，研发成功对科技自主意义重大。

目前中国光刻机产业还在追赶国际先进水平，7纳米以下技术尚未成熟。科研团队正加速研发，预计未来3年可实现更高端技术突破。国家加大资金投入，多家企业联合攻关，推动国产光刻机走向世界。