中国光刻机什么水平了?

中国光刻机技术近年取得突破，28纳米芯片已量产，7纳米工艺正在研发。上海微电子装备公司研发的光刻机用于面板生产，中芯国际等企业实现技术追赶。华为海思等芯片企业推动国产化进程，但高端光刻机仍依赖进口。

光刻机是芯片制造的核心设备，精度要求极高。荷兰ASML公司垄断高端市场，中国加速自主研发。长江存储等企业投入巨资建设产线，国内产业链逐步完善。光刻机制造涉及光学、材料等多领域技术，中国仍需时间追赶国际领先水平。