光刻工艺是什么?

光刻工艺是芯片制造的核心技术，通过紫外光将电路图案转移到硅片上。光刻机如同精密的“画笔”，在晶圆上刻画出纳米级的线条。一块芯片需要数十次光刻，每次精度达到几纳米。台积电、三星等企业依赖这项技术生产先进芯片，光刻精度直接决定芯片性能。

光刻工艺包括涂胶、曝光、显影等步骤。光刻胶材料对光线敏感，曝光后形成电路图形。荷兰ASML的EUV光刻机使用极紫外光，精度突破13纳米。中国也在研发自主光刻技术，减少对外部设备的依赖。光刻技术进步推动着整个半导体行业发展。